中 EUV 리소그래피 장비 역설계 성공했다?

최근 고성능 반도체를 제조하기 위해서는 극자외선(EUV) 리소그래피라는 기술이 필수적이며 전 세계에서 유일하게 네덜란드 기업 ASML만이 관련 장비를 제조하고 있다. 하지만 미국 압력을 받은 네덜란드 측 제재 조치 영향으로 ASML은 중국과의 거래가 금지된 상태. 이 때문에 중국에서는 고성능 반도체 개발이 지체되고 있는데 새롭게 중국이 독자적인 EUV 리소그래피 장비를 개발했다고 전해졌다.

보도에 따르면 중국은 ASML 전 엔지니어링 팀 협력을 얻어 선전에 있는 연구소에서 ASML EUV 장비를 역설계하고 독자적인 EUV 장비 시제품을 구축했다는 것.

EUV 리소그래피 장비는 극자외선 빔을 사용해 인간 머리카락 두께 수천 분의 1 크기 회로를 실리콘 웨이퍼에 식각하는 기술이다. 관계자에 따르면 중국 장비는 가동 상태에 있으며 극자외광 발광에는 성공했지만 정상 작동하는 반도체 제조에는 이르지 못했다고 한다.

EUV 리소그래피 장비에는 복잡한 구조가 여러 개 있으며 중국 엔지니어가 시제품에 어떤 기술을 채택했는지는 아직 불명확하지만 엔지니어는 ASML 구형 장비 부품을 유용하고 있다고 한다. 늦어도 2028년까지 시제품으로 실용적인 반도체 생산을 시작하는 걸 목표로 하고 있지만 관계자는 보다 현실적인 목표는 2030년이라는 정보를 공유했다.

관계자는 이 계획을 맨해튼 프로젝트 중국판이라고 표현했다. 관계자는 이 프로젝트에 채용된 중국인 베테랑 기술자는 고액의 계약금과 함께 가명으로 발급된 신분증을 받은 것에 놀랐으며 지시는 명확했으며 국가안보상 기밀 취급이었고 중국 출신 ASML 전 기술자·과학자도 포함되어 있었다고 말했다고 한다.

또 네덜란드 거주 중국인 ASML 현직 직원 2명이 적어도 2020년 이후 화웨이 채용 담당자로부터 접촉이 있었다고 증언했다.

ASML은 영업 비밀과 기밀 정보를 엄중히 보호하고 있다고 밝혔다. 또 EUV 기술 지식을 보호하기 위해 사내에서도 선별된 직원만 정보에 접근할 수 있는 체제를 갖추고 있다고 설명했다.

서방 국가가 수출 규제를 통해 중국 측 진전을 늦추려 하고 있음에도 불구하고 중국은 애널리스트 예상보다 빠르게 기술을 발전시키고 있는 것으로 보인다. 중국은 저성능 반도체 이른바 레거시 칩에서 꾸준히 점유율을 확대하고 있으며 고성능 반도체 양산이 이뤄진다면 모든 반도체 분야에서 점유율을 늘릴 가능성이 있다. 관련 내용은 이곳에서 확인할 수 있다.