□ 과 정 명 : 지식재산권 출원 지원(OASIS-3) 1기 (본 과정은 영어로 진행됩니다.)
□ 운영목적 : 지식재산권 소양교육(OASIS-1,2) 우수 수료자 중 창의성과 사업성이 우수한 아이디어를 보유한 참가자를 대상으로, 특허, 실용신안, 디자인 출원 전반에 대한 맞춤형 지원 제공
□ 모집대상 : OASIS-1 및 OASIS-2 과정을 수료하고, 국내에서 기술창업을 하고자 하는 합법 체류 외국인 중 창의성과 사업성이 우수한 아이디어 보유자
□ 지원분야 : 특허, 실용신안, 디자인 출원 (저작권 및 상표는 지원 대상에서 제외됩니다.)
□ 모집기간 : 2026.07.09.(목) ~ 2026.07.19.(일) 24:00까지
□ 지원방법 : (1) 지재권별 출원신청서(해당 시 첨부자료 포함), (2) 참여신청서, (3) 참여서약서, (4) 체류자격 증빙 서류, (5) OASIS-1 & OASIS-2 이수증 등 이메일로 제출
□ 심사일정 : 2026.07.20(월) ~ 2026.07.29.(수), 2일간 총 12시간
□ 심사방식 : 서류 심사 (지식재산권 3개 분야별로 각각 다른 심사기준 및 필요서류 적용)
□ 최종선발 : 2026.07.30.(목)
□ 참여혜택 : 변리사와 1:1 출원 컨설팅 지원(1인당 2회), 선행기술조사 지원, 예산 범위 내 출원비용 일부 지원(1인 1건)
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